Αρχειοθήκη ιστολογίου

Σάββατο 6 Μαΐου 2017

Room-Temperature ALD of Metal Oxide Thin Films by Energy-Enhanced ALD

Potts, SE; Profijt, HB; Roelofs, R; Kessels, WMM; (2013) Room-Temperature ALD of Metal Oxide Thin Films by Energy-Enhanced ALD. Chemical Vapor Deposition , 19 (4-6) pp. 125-133. 10.1002/cvde.201207033 .

http://ift.tt/2qCzUsq

Δεν υπάρχουν σχόλια:

Δημοσίευση σχολίου