Αρχειοθήκη ιστολογίου

Παρασκευή 26 Μαΐου 2017

Low temperature plasma-enhanced atomic layer deposition of metal oxide thin films

Potts, SE; Keuning, W; Langereis, E; Dingemans, G; Van De Sanden, MCM; Kessels, WMM; (2010) Low temperature plasma-enhanced atomic layer deposition of metal oxide thin films. Journal of the Electrochemical Society , 157 (7) pp. 66-74. 10.1149/1.3428705 .

http://ift.tt/2r3E5Lx

Δεν υπάρχουν σχόλια:

Δημοσίευση σχολίου